著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
松谷 晃宏 and 小山 二三夫,Smooth and Vertical Profile Dry Etching of Si Using XeF2 Plasma,"Jpn. J. Appl. Phys vol.48,06FE09",,,2009,,,1-3,https://cir.nii.ac.jp/crid/1010000782461392260,