Smooth and Vertical Profile Dry Etching of Si Using XeF2 Plasma
書誌事項
- タイトル
- Smooth and Vertical Profile Dry Etching of Si Using XeF2 Plasma
- 著者
- Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, Fumio Koyama
収録刊行物
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- Jpn. J. Appl. Phys vol.48,06FE09
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Jpn. J. Appl. Phys vol.48,06FE09 1-3, 2009