50 nm gate electrode patterning using a neutral-beam etching system
書誌事項
- タイトル
- 50 nm gate electrode patterning using a neutral-beam etching system
- 著者
- 野田周一
収録刊行物
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- Journal of Vacuum Science and Technology A22・4
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Journal of Vacuum Science and Technology A22・4 1506-1512, 2004