クロム微小ドットの酸化シリコン基板からのはく離発生強度評価
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- 平方 寛之
- 京都大学
書誌事項
- タイトル
- クロム微小ドットの酸化シリコン基板からのはく離発生強度評価
- 著者
- 松本祥平, 平方寛之, 北村隆行
収録刊行物
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- 日本学術会議第48回材料研究連合講演会講演論文集
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日本学術会議第48回材料研究連合講演会講演論文集 356-357, 2004
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詳細情報
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- CRID
- 1010282256867826692
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- 資料種別
- journal article
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- データソース種別
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- KAKEN