クロム微小ドットの酸化シリコン基板からのはく離発生強度評価

書誌事項

タイトル
クロム微小ドットの酸化シリコン基板からのはく離発生強度評価
著者
松本祥平, 平方寛之, 北村隆行

収録刊行物

関連プロジェクト

もっと見る

詳細情報

  • CRID
    1010282256867826692
  • 資料種別
    journal article
  • データソース種別
    • KAKEN

問題の指摘

ページトップへ