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Chamical Mechanical Polishing of SiC Substrate Using Enhanced Slurry Containing Nanobubbles with Active Gas Generated by Plasma

書誌事項

タイトル
Chamical Mechanical Polishing of SiC Substrate Using Enhanced Slurry Containing Nanobubbles with Active Gas Generated by Plasma
著者
Shinya MIZUUCHI, Michio UNEDA, Kazutaka SHIBUYA, Yoshio NAKAMURA, Daizo ICHIKAWA and Ken-ichi ISHIKAWA

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詳細情報

  • CRID
    1010282256942812032
  • 資料種別
    journal article
  • データソース種別
    • KAKEN

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