Helicon-wave-excited- plasma sputtering epitaxy of Nb-doped Ti0-2 films on GaN

書誌事項

タイトル
Helicon-wave-excited- plasma sputtering epitaxy of Nb-doped Ti0-2 films on GaN
著者
A.N.Fouda, K.Hazu, T.Nakayama, A.Tanaka, S.F.Chichibu

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詳細情報

  • CRID
    1010282257082276653
  • 資料種別
    journal article
  • データソース種別
    • KAKEN

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