Fabrication of Amorphous Silicon Carbide Films from Decomposition of Tetramethylsilane using ECR plasma of Ar
書誌事項
- タイトル
- Fabrication of Amorphous Silicon Carbide Films from Decomposition of Tetramethylsilane using ECR plasma of Ar
- 著者
- H. Ito, S. Onitsuka, R. Gappa, H. Saitoh, R. Roacho, K. H. Pannell, T. Suzuki, M. Niibe,and K. Kanda
収録刊行物
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- J. Phys. Conf. Ser.
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J. Phys. Conf. Ser. (印刷中)
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詳細情報
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- CRID
- 1010282257097332992
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- Web Site
- http://iopscience.iop.org/1742-6596/
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- 資料種別
- journal article
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- データソース種別
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- KAKEN