Characteristics of Hot Hole Injection,Trapping, and Detrapping in Gate Oxide of Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors

書誌事項

タイトル
Characteristics of Hot Hole Injection,Trapping, and Detrapping in Gate Oxide of Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors
著者
Yoshinari Kamakura, Takashi Himukashi, Hiroshi Tsuji, and Kenji Taniguchi

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詳細情報

  • CRID
    1010282257097842433
  • 資料種別
    journal article
  • データソース種別
    • KAKEN

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