低エントロピー反応空間が実現する高秩序触媒反応化学の総括
研究課題情報
- 体系的番号
- JP21H05079 (JGN)
- 助成事業
- 科学研究費助成事業
- 資金配分機関情報
- 日本学術振興会(JSPS)
科研費情報
- 研究課題/領域番号
- 21H05079
- 研究種目
- 学術変革領域研究(B)
- 配分区分
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- 補助金
- 審査区分/研究分野
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- 学術変革領域研究区分(Ⅱ)
- 研究機関
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- 国立研究開発法人産業技術総合研究所
- 東京大学
- 研究期間 (年度)
- 2021-08-23 〜 2024-03-31
- 研究課題ステータス
- 完了
- 配分額*注記
- 5,460,000 円 (直接経費: 4,200,000 円 間接経費: 1,260,000 円)
研究概要
本研究領域では触媒反応系における反応経路の高秩序化を可能とする「反応に関与する化学種が高度に秩序だって存在する空間」を「低エントロピー反応空間」と定義する。本反応空間はマイクロメートルからプロセス生産可能なサイズの様々な連続フロー反応系に創出できる。有機化学、化学工学、物理化学の分野横断的な連携と、実験系と流体・反応シュミレーションの連携により、有機合成触媒化学における活性および選択性を自在に制御可能な低エントロピー反応空間の設計のための新理論構築を行う。