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"鈴木, 耕佑 and 大野, 雄高 and 岸本, 茂 and 水谷, 孝 and SUZUKI, Kosuke and OHNO, Yutaka and KISHIMOTO, Shigeru and MIZUTANI, Takashi",CNFETにおけるhigh-kゲート絶縁膜界面近傍の電荷分布とその影響,"電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス",0913-5685,一般社団法人電子情報通信学会,2012-01,111,426,83-87,https://cir.nii.ac.jp/crid/1050001338804667520,