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"神戸, 宏 and 宮地, 正之 and 廣瀬, 真美",ウェハボンディングによるGe/Siヘテロ接合形成とフォトダイオード特性,高知工科大学紀要,1348-4842,高知工科大学,2008-12-26,5,1,153-160,https://cir.nii.ac.jp/crid/1050282676658468096,