著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
"松井, 真史 and 藤岡, 知宏 and 大田, 晃生 and 村上, 秀樹 and 東, 清一郎 and 宮崎, 誠一 and Matsui, Masafumi and Fujioka, Tomohiro and Ohta, Akio and Murakami, Hideki and Higashi, Seiichiro and Miyazaki, Seiichi","金属/GeO_2界面における化学結合状態の光電子分光分析(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)","電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス",09135685,一般社団法人電子情報通信学会,2011-06-27,111,114,63-68,https://cir.nii.ac.jp/crid/1050564288758106240,