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"板倉, 賢",ハレクシスCBED法を用いた鉄シリサイド半導体薄膜の結晶性評価,,[九州大学],2007,日本学術振興会科学研究費補助金基盤研究(B),,,,https://cir.nii.ac.jp/crid/1130000794106779648