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"酒井, 洋輔",低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積a-C:F膜による機器絶縁の軽量化と耐電圧向上,,[北海道大学大学院情報科学研究科],2008,科学研究費補助金(基盤研究(B))研究成果報告書,,,,https://cir.nii.ac.jp/crid/1130000794437572352