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,静電噴霧沈着法による組成及び膜構造の制御された無機薄膜の製造装置開発,,[大谷吉生],2002,科学研究費補助金(基盤研究(B)(1))研究成果報告,,,,https://cir.nii.ac.jp/crid/1130000795397373056