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"中島, 寛",次世代LSI用高誘電率ゲート絶縁膜の低温形成と機能評価,,[九州大学],2004,科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書,,,,https://cir.nii.ac.jp/crid/1130000795739157504