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"中島, 寛",省電力LSI用高誘電率ゲート絶縁膜の自己整合プロセス開発,,[九州大学],2006,科学研究費補助金(基盤研究(B))研究成果報告書,,,,https://cir.nii.ac.jp/crid/1130000798074838912