マイクロ波励起プラズマによる低誘電率/高誘電率薄膜形成プロセスの研究

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Bibliographic Information

Title
"マイクロ波励起プラズマによる低誘電率/高誘電率薄膜形成プロセスの研究"
Statement of Responsibility
平山昌樹研究代表者
Publisher
  • [平山昌樹]
Publication Year
  • 2000.3
Book size
30cm
Other Title
  • マイクロハ レイキ プラズマ ニヨル テイユウデンリツ/ コウユウデンリツ ハクマク ケイセイ プロセス ノ ケンキュウ
  • 平成10-11年度科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書(研究課題番号10450111)

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Details 詳細情報について

  • CRID
    1130282269094166016
  • NII Book ID
    BB03545665
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    ja
  • Place of Publication
    • [仙台]
  • Data Source
    • CiNii Books
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