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"伊達, 広行",低周波プラズマCVD(TEOS+O[2])によるシリコン酸化膜の低温形成プロセス開発,,[北海道大学医療技術短期大学部],1994,科学研究費補助金(試験研究B(2))研究成果報告書,,,,https://cir.nii.ac.jp/crid/1130282269436074624