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"水野, 敦",発明の包括的な保護を図る制度 : 米国の一部継続出願制度と我が国の国内優先権制度の比較を通じて = System for comprehensive protection of invention : through the comparison between the U.S. CIP application system and the Japanese internal priority system,,知的財産研究所,2005,産業財産権研究推進事業報告書,,,,https://cir.nii.ac.jp/crid/1130282269874654976