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"宮里, 達郎",超高周波フォノンによるシリコン中の酸化誘起積層欠陥に関する研究,,[九州工業大学],1999,科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書,,,,https://cir.nii.ac.jp/crid/1130282269924597120