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"酒井, 洋輔",低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積CxFy膜を用いたSF[6]代替絶縁方式の開発,,[北海道大学大学院工学研究科],2004,科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書,,,,https://cir.nii.ac.jp/crid/1130282270563048576