著者名,書名,版表示,出版者名,出版年,シリーズ名,番号,ISBN,ISSN,URL
,最新液晶プロセス技術 : Technology・equipment・materials,,プレスジャーナル,2003,Semiconductor FPD world,,4894661349,,https://cir.nii.ac.jp/crid/1130282270599826560