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"下妻, 光夫",低周波プラズマCVDによるシリコン窒化膜の室温形成プロセスの開発,,[北海道大学医療技術短期大学部],1988,科学研究費補助金(試験研究2)研究成果報告書,,,,https://cir.nii.ac.jp/crid/1130282270997836672