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"奥山, 喜久夫",液体原料気化CVD法による誘電体薄膜の製造とプロセスシミュレータの開発,,広島大学大学院工学研究科,2003,科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書,,,,https://cir.nii.ac.jp/crid/1130282271192620160