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"室田, 淳一",ラングミュア吸着・反応制御プロセスを駆使して製作するIV族半導体極微細デバイス,,[室田淳一],1999,科学研究費補助金(基盤研究(A)(2))研究成果報告書,,,,https://cir.nii.ac.jp/crid/1130282271328757632