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"中村, 哲郎",紫外光励起を利用したシリコン基板へのエピタキシャル絶縁膜形成の基礎研究,,中村哲郎,1988,科学研究費補助金(一般研究(B))研究成果報告書,,,,https://cir.nii.ac.jp/crid/1130282272262523776