著者名,書名,版表示,出版者名,出版年,シリーズ名,番号,ISBN,ISSN,URL
,最新半導体プロセス技術 : technology & equipment,,プレスジャーナル,2001,Semiconductor FPD world,,"489466111X,4894661470",,https://cir.nii.ac.jp/crid/1130282273322269696