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大山 泰 and 塩谷 喜美 and 前田 守 and 高木 幹夫,プラズマＣＶＤ法により形成したタングステンシリサイド膜の評価,真空,05598516,一般社団法人 日本真空学会,1983,26,11,831-836,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001204064550784,https://doi.org/10.3131/jvsj.26.831