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冨岡 雄吾 and 斎藤 順雄 and 山口 十六夫 and 河村 和彦,Ｃｏ‐ｓｐｕｔｔｅｒ法によるＡｌ及びＢ添加ａ‐ＳｉＣ：Ｈ薄膜の電気的特性,真空,05598516,一般社団法人 日本真空学会,1990,33,9,733-737,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001204065328000,https://doi.org/10.3131/jvsj.33.733