著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
前田 和夫,マルチメディア時代における真空装置と薄膜応用 半導体と真空装置,表面技術,09151869,一般社団法人 表面技術協会,1997,48,11,1043-1049,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001204114134400,https://doi.org/10.4139/sfj.48.1043