著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
小澤 良夫 and 福元 正人 and 水津 康正,表面技術と半導体プロセス シリコン基板表面状態とゲート酸化膜の信頼性,表面技術,09151869,一般社団法人 表面技術協会,1998,49,3,248-252,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001204114932608,https://doi.org/10.4139/sfj.49.248