著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
川原 孝昭,マルチメディア時代における真空装置と薄膜応用 高誘電率薄膜成膜技術,表面技術,09151869,一般社団法人 表面技術協会,1997,48,11,1054-1058,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001204115904640,https://doi.org/10.4139/sfj.48.1054