著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
平野 真也 and 河田 研治 and 浅水 啓州 and 加藤 智久,パワーエレクトロニクス用SiCウェーハの高能率CMPプロセスの開発,砥粒加工学会誌,09142703,社団法人 砥粒加工学会,2016,60,8,454-459,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001204333503104,https://doi.org/10.11420/jsat.60.454