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奥野 昌二 and 下前 幸康 and 和田 芳直 and 荒川 隆一,ポーラスシリコンを用いるレーザー脱離イオン化質量分析の合成高分子への応用,分析化学,05251931,公益社団法人 日本分析化学会,2005,54,6,439-447,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001204354866176,https://doi.org/10.2116/bunsekikagaku.54.439