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小林 一三,MOCVD法によるTa2O5薄膜作製用原料としての高純度[Ta(dpm)4]Clの合成,日本化学会誌（化学と工業化学）,0369-4577,公益社団法人 日本化学会,1992-12-10,1992,12,1515-1517,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001204390054272,https://doi.org/10.1246/nikkashi.1992.1515