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林 豊 and 島田 学 and 奥山 喜久夫 and 柏原 伸紀 and Setyawan Heru,ＰＥＣＶＤ成膜装置内での粒子汚染現象に対する操作流量の影響,粉体工学会誌,03866157,一般社団法人 粉体工学会,2005,42,2,105-109,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001204511906816,https://doi.org/10.4164/sptj.42.105