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加藤 勇 and 上田 哲也 and 畑中 和久,二重管式同軸線路マイクロ波プラズマＣＶＤ法によるａ‐Ｓｉ：Ｈ薄膜の基板温度特性,電気学会論文誌． Ａ,03854205,一般社団法人 電気学会,1986,106,8,391-397,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001204592992000,https://doi.org/10.1541/ieejfms1972.106.391