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熊懐 正彦 and 吉野 正樹 and 佐藤 孝紀 and 伊藤 秀範,RFプラズマCVD法によるSiCN薄膜堆積の低温化に関する研究,電気学会論文誌． Ａ,03854205,一般社団法人 電気学会,2014,134,10,538-544,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001204599735552,https://doi.org/10.1541/ieejfms.134.538