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菅野 裕士 and 権丈 淳 and 佐道 泰造 and 宮尾 正信,Ni触媒誘起固相成長法を用いた次世代TFT用多結晶Si<sub>1-x</sub>Ge<sub>x</sub>(0≦x≦1)薄膜の低温形成,電気学会論文誌Ｃ（電子・情報・システム部門誌）,03854221,一般社団法人 電気学会,2006,126,9,1073-1078,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001204604017664,https://doi.org/10.1541/ieejeiss.126.1073