著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
山部 紀久夫 and 蓮沼 隆,極薄シリコン酸化膜における原子レベルの膜厚均一性と信頼性,Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ｖａｃｕｕｍ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｊａｐａｎ,18822398,一般社団法人 日本真空学会,2015,58,1,27-34,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001205294170368,https://doi.org/10.3131/jvsj2.58.27