拡散反射法FT-IRによるシリカSi-OH基の重水素化反応挙動のその場観察
書誌事項
- タイトル別名
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- In-situ analysis of the deuteration behavior of Si-OH groups on silica materials by DRIFTS
説明
アモルファスシリカ中に含まれるSi-OH基は300℃以上の高温重水素中でSi-OD基に変換されることが知られている。本研究では、ゾル-ゲル法により合成したシリカ材料における上記変換反応の挙動を調べるため、拡散反射法 (DRIFTS)を用い、高温重水素中でのin-situ FT-IR測定を試みた。その結果、ある種の金属をドープしたシリカ材料において、変換反応の速度が増大することが解った。またこの反応速度増大には、金属種とSi-OH基との間の水素結合の形成が深く関与していることが示唆された。
収録刊行物
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- 日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
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日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集 2009F (0), 2H01-2H01, 2009
公益社団法人 日本セラミックス協会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001205617367424
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- NII論文ID
- 130006975265
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可