高性能レーザプラズマEUV(Extreme-ultraviolet）光源の開発

DOI
  • 中野 元博
    大阪大学 大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻
  • 吉川 隆弥
    大阪大学 大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻
  • 大谷 祐子
    大阪大学 大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻
  • 片岡 俊彦
    大阪大学 大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻
  • 井上 晴行
    大阪大学 大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻
  • 押鐘 寧
    大阪大学 大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻

書誌事項

タイトル別名
  • Development of High Performance EUV Light Source by Laser Produced Plasma
  • ターゲット構造とEUV変換効率の評価
公開日
2006
資源種別
journal article
DOI
  • 10.11522/pscjspe.2006a.0.585.0
公開者
公益社団法人 精密工学会

説明

EUVリソグラフィ用の波長13.5nmの光源は、高輝度と高繰返しで長寿命が要求されている。錫(Sn)は高い変換効率を持つ実用性の高いターゲットである。高性能なEUV光源として錫の円錐孔を用いたターゲット構造を提案した。本ターゲットにレーザを集光照射すると、円錐面からのアブレーションにより高密度なプラズマが生成され、EUVを放射する。Mo/Si 多層膜付フォトダイオードで角度分布を計測し、錫の円錐孔ターゲットの変換効率を評価した。

収録刊行物

関連プロジェクト

もっと見る

キーワード

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001205651897344
  • NII論文ID
    130004658236
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2006a.0.585.0
  • 資料種別
    journal article
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
    • KAKEN
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

問題の指摘

ページトップへ