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北村 圭 and 土肥 俊郎 and 黒河 周平 and 梅崎 洋二 and 松川 洋二 and 山崎 努 and 大木 洋太 and 長谷川 正 and 越山 勇 and 市川 浩一郎,315 加工環境制御型密閉式両面CMP装置の設計試作とその加工特性(GS 生産加工II),日本機械学会九州支部講演論文集,2424-2780,一般社団法人 日本機械学会,2010,2010.63,0,109-110,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001205865102976,https://doi.org/10.1299/jsmekyushu.2010.63.109