著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
北村 圭 and 土肥 俊郎 and 黒河 周平 and 大西 修 and 松川 洋二 and 越山 勇 and 尹 涛 and 長谷川 正 and 市川 浩一郎,K35 密閉耐圧チヤンバー型両面同時CMP装置の開発 : 各種加工雰囲気下でのsiおよびsicウエハのcMP特性と光触媒援用cMPの可能性について(K3 CMPII),日本機械学会九州支部講演論文集,2424-2780,一般社団法人 日本機械学会,2011,2011.64,0,409-410,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001205866150656,https://doi.org/10.1299/jsmekyushu.2011.64.409