著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
酒井 朗 and 財満 鎭明 and 安田 幸夫,ヘテロエピタキシャル成長における歪緩和と貫通転位の低減 : Si(001)基板上の高品質Si_<1-x>Ge_x歪緩和層の成長(<小特集>バルク成長分科会特集 : 結晶成長の科学と技術),日本結晶成長学会誌,03856275,日本結晶成長学会,2002,29,5,423-430,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001205897560192,https://doi.org/10.19009/jjacg.29.5_423