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加藤 大樹 and 田岡 琢巳 and 西方 督 and 佐崎 元 and 山田 太郎 and Czajka R. and Wawro A. and 中嶋 一雄 and 粕谷 厚生 and 須藤 彰三,"21pXL-5 高品位H:Si(111)1×1表面作成法と表面フォノン(表面界面ダイナミクス,領域9,表面・界面,結晶成長)",日本物理学会講演概要集,2189-0803,一般社団法人 日本物理学会,2007,62.2.4,0,917,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001206012457088,https://doi.org/10.11316/jpsgaiyo.62.2.4.0_917_4