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佐々木 善章 and 青山 英樹 and 稲崎 一郎 and 柴谷 博志,ＣＭＰによるシリコンウェハの平坦化に関する研究,日本機械学会論文集Ｃ編,03875024,一般社団法人 日本機械学会,2002,68,674,3108-3114,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001206356542336,https://doi.org/10.1299/kikaic.68.3108