著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
宮尾 正信 and 佐道 泰造 and 都甲 薫 and 黒澤 昌志,SiGeミキシング誘起溶融成長によるGOI（Ge on Insulator）の形成―人工単結晶への道―,応用物理,03698009,公益社団法人 応用物理学会,2012-05-10,81,5,410-414,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001277357329152,https://doi.org/10.11470/oubutsu.81.5_410