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辻 正治 and 岡野 慎司 and 田中 敦 and 田之上 剛 and 辻 剛志,Downflow Etching of Si Using a Microwave-Excited Discharge Plasma of Ar/CF_4 Mixtures,九州大学機能物質科学研究所報告,09143793,九州大学機能物質科学研究所,2001,15,1,11-17,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390009224835547520,https://doi.org/10.15017/7930